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ICP电感耦合等离子体发射光谱仪

ICP-MS分析技术在半导体高纯材料分析中的应用

发布日期:2021-09-17  点击次数:

            关键词: 半导体;高纯材料; 质谱;杂质分析;美析仪器:www.xfljx.com;ICP-MS6880


  电感耦合等离子体质谱分析法是将电感耦等离子体(ICP)技术和质谱(MS)技术结合起来, 利用等离子体作为离子源,由接口将等离子体中被 电离了的试样离子引入质谱仪,用质谱仪对离子进行质量分析(按m/Z比值将不同的离子分开)并检测记录,根据所得质谱图进行定性定量分析。
  具有以下几个优点:
  (1)灵敏度高:ICP-MS6880仪器的灵敏度一般高出lCP-AES一到两个数量级,从而对多数元素能达 到更低的检出限:
  (2)动态线性范围宽:
  (3)可多元素同时分析;
  (4)分析速度快,单个样品一般在几秒钟内完成:
  (5)分析元素范围广,能分析元素周期表中除碳、氢、氧外的绝大多数元素. 正因为这些优点,使ICP-MS6880分析技术广泛应 用于半导体工业用高纯材料的痕量杂质分析中.
  主要进行的高纯材料分析
  1. IC硅片表面杂质分析
  2. 光伏多晶硅、单晶硅杂质分析
  3. 三氯氢硅、四氯化硅: ICP.MS法测定高纯四氯化硅中们、V、cr、‘ Co、Ni、Cu、Pb、Zn、Mn九种金属元素.
  4. 超净赢纯试剂分析:括氢氟酸、硝酸、硫酸、盐酸、氨水、双氧水等超纯无机试剂,和异丙醇(IP:A)、丙酮、四甲基氢氧化铵(TMAH),N.甲基丙络烷酮 (NMP)、丙二醇甲基醚乙酯(PGMEA)等超纯有机试剂
  5. 超纯水分析
  6. 高纯气体分析

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